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首頁 > 期刊 > 清洗世界 > 單晶圓擦洗技術及優(yōu)化方案的研究 【正文】

單晶圓擦洗技術及優(yōu)化方案的研究

作者:王文麗; 黃鑫亮; 夏楠君; 祝福生; 趙寶君; 王勇威 中國電子科技集團公司第四十五研究所; 北京101601

摘要:本文基于單晶圓擦洗的原理,分析了單晶圓擦洗常見的兩種方案的缺點,提出了適合單晶圓擦洗的優(yōu)化方案。

注:因版權方要求,不能公開全文,如需全文,請咨詢雜志社。

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