ICP-MS檢測多晶硅表金屬雜質(zhì)的研究
作者：張嘯虎 多晶硅國家工程實驗室分析測試中心; 洛陽471000
摘要：應(yīng)用電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS),對多晶硅料塊表面金屬雜質(zhì)Fe,Cr,Ni,Cu,Zn,Na,元素進(jìn)行檢測。本文研究了樣品的處理方法,確定了適宜的實驗條件,使用該方法能準(zhǔn)確、快速的檢測多晶硅表面的金屬雜質(zhì)含量,適用于商用實驗室中的檢測,符合企業(yè)中工業(yè)化的檢測需求。其檢測方法對多晶硅中的金屬雜質(zhì)Fe,Cr,Ni,Cu,Zn,Na,元素的檢出限達(dá)到0. 01ng/g左右,精密度較好,Fe的加標(biāo)溶液的回收率為90!109%,滿足痕量雜質(zhì)檢測的要求。
注：因版權(quán)方要求，不能公開全文，如需全文，請咨詢雜志社。
中國檢驗檢測雜志
中國檢驗檢測雜志， 雙月刊，本刊重視學(xué)術(shù)導(dǎo)向，堅持科學(xué)性、學(xué)術(shù)性、先進(jìn)性、創(chuàng)新性，刊載內(nèi)容涉及的欄目：政策研究、學(xué)術(shù)研究、實驗室管理、能力驗證等。于2017年經(jīng)新聞總署批準(zhǔn)的正規(guī)刊物。
- 部級期刊
- 1個月內(nèi)審核
