《Japanese Journal Of Applied Physics》雜志是一本專注于物理與天體物理領(lǐng)域的高質(zhì)量期刊，該雜志的錄用率受多種因素影響，想具體了解可聯(lián)系雜志社或咨詢在線客服。

《Japanese Journal Of Applied Physics》雜志的錄用率受多種因素影響，具體如下：

年發(fā)文量：《Japanese Journal Of Applied Physics》雜志年發(fā)文量為：839篇。年發(fā)文量較大的期刊，相對(duì)而言錄用率會(huì)高一些。

質(zhì)量與創(chuàng)新性：論文的科學(xué)性、嚴(yán)謹(jǐn)性、數(shù)據(jù)可靠性以及創(chuàng)新性是關(guān)鍵。

期刊分區(qū)：《Japanese Journal Of Applied Physics》雜志在中科院的分區(qū)為4區(qū)，而在JCR的分區(qū)為Q3。

論文質(zhì)量：包括研究設(shè)計(jì)的合理性、數(shù)據(jù)的可靠性、分析方法的科學(xué)性等。

影響力與排名：《Japanese Journal Of Applied Physics》雜志IF影響因子為：1.5。高影響力的期刊通常對(duì)論文質(zhì)量要求更高，錄用率相對(duì)較低。

審稿流程：嚴(yán)格的多輪審稿流程會(huì)篩選掉部分稿件，導(dǎo)致錄用率下降。

投稿數(shù)量：在特定時(shí)期內(nèi)，若大量研究者集中向某期刊投稿，會(huì)導(dǎo)致稿件堆積，錄用率下降。

SCI期刊的錄用率受多重因素影響，作者應(yīng)根據(jù)自身研究特點(diǎn)選擇合適的期刊，并確保稿件質(zhì)量以提高錄用機(jī)會(huì)，投稿前務(wù)必仔細(xì)閱讀期刊的投稿指南，并與雜志社保持良好溝通。

《Japanese Journal Of Applied Physics》雜志簡(jiǎn)介

中文簡(jiǎn)稱：日本應(yīng)用物理學(xué)雜志
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)稱：JPN J APPL PHYS
出版商：Japan Society of Applied Physics
出版周期：Monthly
出版年份：1962年
出版地區(qū)：JAPAN
ISSN：0021-4922
ESSN：1347-4065
研究方向：物理 - 物理：應(yīng)用

《日本應(yīng)用物理學(xué)雜志》（JJAP）是一本國(guó)際期刊，旨在促進(jìn)和傳播應(yīng)用物理學(xué)各個(gè)領(lǐng)域的知識(shí)。JJAP 是《應(yīng)用物理學(xué)快報(bào)》（APEX）的姊妹期刊，由 IOP Publishing Ltd 代表日本應(yīng)用物理學(xué)會(huì)（JSAP）出版。

JJAP 發(fā)表的文章對(duì)物理原理的應(yīng)用以及從特定應(yīng)用角度理解物理學(xué)做出了重大貢獻(xiàn)。 JJAP 涵蓋的主題包括以下領(lǐng)域：

? 半導(dǎo)體、電介質(zhì)和有機(jī)材料

? 光子學(xué)、量子電子學(xué)、光學(xué)和光譜學(xué)

? 自旋電子學(xué)、超導(dǎo)性和強(qiáng)關(guān)聯(lián)材料

? 器件物理學(xué)，包括量子信息處理

? 基于物理的電路和系統(tǒng)

? 納米科學(xué)和技術(shù)

? 晶體生長(zhǎng)、表面、界面、薄膜和塊體材料

? 等離子體、應(yīng)用原子和分子物理學(xué)以及應(yīng)用核物理學(xué)

? 器件處理、制造和測(cè)量技術(shù)以及儀器

? 跨學(xué)科領(lǐng)域，如生物電子學(xué)/光子學(xué)、生物傳感、環(huán)境/能源技術(shù)和 MEMS

在中科院分區(qū)表中，大類學(xué)科為物理與天體物理4區(qū)， 小類學(xué)科為PHYSICS, APPLIED物理：應(yīng)用4區(qū)。

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