《Journal Of Applied Physics》雜志是一本專注于物理與天體物理領(lǐng)域的高質(zhì)量期刊，該雜志的錄用率受多種因素影響，想具體了解可聯(lián)系雜志社或咨詢在線客服。

《Journal Of Applied Physics》雜志的錄用率受多種因素影響，具體如下：

年發(fā)文量：《Journal Of Applied Physics》雜志年發(fā)文量為：1576篇。年發(fā)文量較大的期刊，相對(duì)而言錄用率會(huì)高一些。

質(zhì)量與創(chuàng)新性：論文的科學(xué)性、嚴(yán)謹(jǐn)性、數(shù)據(jù)可靠性以及創(chuàng)新性是關(guān)鍵。

期刊分區(qū)：《Journal Of Applied Physics》雜志在中科院的分區(qū)為3區(qū)，而在JCR的分區(qū)為Q2。

論文質(zhì)量：包括研究設(shè)計(jì)的合理性、數(shù)據(jù)的可靠性、分析方法的科學(xué)性等。

影響力與排名：《Journal Of Applied Physics》雜志IF影響因子為：2.7。高影響力的期刊通常對(duì)論文質(zhì)量要求更高，錄用率相對(duì)較低。

審稿流程：嚴(yán)格的多輪審稿流程會(huì)篩選掉部分稿件，導(dǎo)致錄用率下降。

投稿數(shù)量：在特定時(shí)期內(nèi)，若大量研究者集中向某期刊投稿，會(huì)導(dǎo)致稿件堆積，錄用率下降。

SCI期刊的錄用率受多重因素影響，作者應(yīng)根據(jù)自身研究特點(diǎn)選擇合適的期刊，并確保稿件質(zhì)量以提高錄用機(jī)會(huì)，投稿前務(wù)必仔細(xì)閱讀期刊的投稿指南，并與雜志社保持良好溝通。

《Journal Of Applied Physics》雜志簡(jiǎn)介

中文簡(jiǎn)稱：應(yīng)用物理學(xué)雜志
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)稱：J APPL PHYS
出版商：American Institute of Physics
出版周期：Semimonthly
出版年份：1937年
出版地區(qū)：UNITED STATES
ISSN：0021-8979
ESSN：1089-7550
研究方向：物理 - 物理：應(yīng)用

《應(yīng)用物理學(xué)雜志》（JAP）是一本具有影響力的國(guó)際期刊，發(fā)表應(yīng)用物理學(xué)研究的重要新實(shí)驗(yàn)和理論成果。

JAP 涵蓋的主題多種多樣，反映了最新的應(yīng)用物理學(xué)研究，包括：

電介質(zhì)、鐵電體和多鐵性材料-

放電、等離子體和等離子體表面相互作用-

新興、跨學(xué)科和其他應(yīng)用物理學(xué)領(lǐng)域-

磁學(xué)、自旋電子學(xué)和超導(dǎo)性-

有機(jī)-無機(jī)系統(tǒng)，包括有機(jī)電子學(xué)-

光子學(xué)、等離子體學(xué)、光伏、激光、光學(xué)材料和現(xiàn)象-

設(shè)備和傳感器的物理學(xué)-

材料物理學(xué)，包括電、熱、機(jī)械和其他特性-

物理學(xué)極端條件下物質(zhì)的動(dòng)力學(xué)-

納米級(jí)和低維系統(tǒng)物理學(xué)，包括原子和量子現(xiàn)象-

半導(dǎo)體物理學(xué)-

軟物質(zhì)、流體和生物物理學(xué)-

薄膜、界面和表面

在中科院分區(qū)表中，大類學(xué)科為物理與天體物理3區(qū)， 小類學(xué)科為PHYSICS, APPLIED物理：應(yīng)用3區(qū)。

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