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《Surface And Interface Analysis》雜志好發(fā)表嗎?

來源:優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2024-09-18 10:49:47 562人看過

《Surface And Interface Analysis》雜志是一本專注于化學領域的期刊,發(fā)表難度因多種因素而異,以下是具體分析:

《表面與界面分析》致力于發(fā)表有關表面、界面和薄膜表征技術開發(fā)和應用的論文。特別歡迎有關標準化和量化的論文,以及有關將這些技術應用于工業(yè)問題的論文。純理論方面的論文也將予以考慮。將發(fā)表評論文章;在這種情況下,建議事先咨詢其中一位編輯。論文必須具有該領域的科學價值,并將提交給兩名獨立審稿人。投稿必須為英文,且不得在其他地方發(fā)表,作者必須同意不將同一材料轉交給其他任何期刊發(fā)表。作者可向 John Watts(僅限英國)、Jose Sanz(歐洲其他地區(qū))、John T. Grant(除日本外的所有非歐洲國家)或 R. Shimizu(僅限日本)提交論文以供發(fā)表。

發(fā)表難度

影響因子與分區(qū):《Surface And Interface Analysis》雜志的影響因子為1.6,屬于JCR分區(qū)Q4區(qū),中科院分區(qū)中大類學科化學為4區(qū), 小類學科CHEMISTRY, PHYSICAL物理化學為4區(qū),較高的影響因子和較好的分區(qū)表明其在學術界具有較高的影響力和認可度,因此對稿件的質(zhì)量要求也相對較高,發(fā)表難度較大。

歷年IF值(影響因子):

WOS分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023-2024年最新版)

按JIF指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科:CHEMISTRY, PHYSICAL SCIE Q4 154 / 178

13.8%

按JCI指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科:CHEMISTRY, PHYSICAL SCIE Q4 163 / 178

8.71%

名詞解釋:
WOS即Web of Science,是全球獲取學術信息的重要數(shù)據(jù)庫,Web of Science包括自然科學、社會科學、藝術與人文領域的信息,來自全世界近9,000種最負盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學術會議多學科內(nèi)容。給期刊分區(qū)時會按照某一個學科領域劃分,根據(jù)這一學科所有按照影響因子數(shù)值降序排名,然后平均分成4等份,期刊影響因子值高的就會在高分區(qū)中,最后的劃分結果分別是Q1,Q2,Q3,Q4,Q1代表質(zhì)量最高。

審稿周期預計:平均審稿速度 約4.4個月 ,審稿周期也體現(xiàn)了編輯部對稿件質(zhì)量的嚴格把關。

發(fā)表建議

提高稿件質(zhì)量:確保研究內(nèi)容具有創(chuàng)新性和學術價值,語言表達清晰準確,符合雜志物理化學的格式和要求。

提前準備:根據(jù)審稿周期,建議作者提前規(guī)劃好研究和寫作進度,以便有足夠的時間進行修改和補充。同時,可以關注《Surface And Interface Analysis》雜志的約稿信息,如果能夠獲得約稿機會,發(fā)表的可能性會更大。

聲明:以上內(nèi)容來源于互聯(lián)網(wǎng)公開資料,如有不準確之處,請聯(lián)系我們進行修改。

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