《Topology And Its Applications》雜志是一本專注于數(shù)學(xué)領(lǐng)域的高質(zhì)量期刊，該雜志的錄用率受多種因素影響，想具體了解可聯(lián)系雜志社或咨詢在線客服。

《Topology And Its Applications》雜志的錄用率受多種因素影響，具體如下：

年發(fā)文量：《Topology And Its Applications》雜志年發(fā)文量為：281篇。年發(fā)文量較大的期刊，相對(duì)而言錄用率會(huì)高一些。

質(zhì)量與創(chuàng)新性：論文的科學(xué)性、嚴(yán)謹(jǐn)性、數(shù)據(jù)可靠性以及創(chuàng)新性是關(guān)鍵。

期刊分區(qū)：《Topology And Its Applications》雜志在中科院的分區(qū)為4區(qū)，而在JCR的分區(qū)為Q3。

論文質(zhì)量：包括研究設(shè)計(jì)的合理性、數(shù)據(jù)的可靠性、分析方法的科學(xué)性等。

影響力與排名：《Topology And Its Applications》雜志IF影響因子為：0.6。高影響力的期刊通常對(duì)論文質(zhì)量要求更高，錄用率相對(duì)較低。

審稿流程：嚴(yán)格的多輪審稿流程會(huì)篩選掉部分稿件，導(dǎo)致錄用率下降。

投稿數(shù)量：在特定時(shí)期內(nèi)，若大量研究者集中向某期刊投稿，會(huì)導(dǎo)致稿件堆積，錄用率下降。

SCI期刊的錄用率受多重因素影響，作者應(yīng)根據(jù)自身研究特點(diǎn)選擇合適的期刊，并確保稿件質(zhì)量以提高錄用機(jī)會(huì)，投稿前務(wù)必仔細(xì)閱讀期刊的投稿指南，并與雜志社保持良好溝通。

《Topology And Its Applications》雜志簡(jiǎn)介

中文簡(jiǎn)稱：拓?fù)浼捌鋺?yīng)用
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)稱：TOPOL APPL
出版商：Elsevier
出版周期：Monthly
出版年份：1980年
出版地區(qū)：NETHERLANDS
ISSN：0166-8641
ESSN：1879-3207
研究方向：數(shù)學(xué) - 數(shù)學(xué)

《拓?fù)鋵W(xué)及其應(yīng)用》主要關(guān)注發(fā)表篇幅適中的原創(chuàng)研究論文。但是，也包括了數(shù)量有限的精心挑選的綜述或說明性論文。該期刊的數(shù)學(xué)重點(diǎn)正如其標(biāo)題所暗示的那樣：拓?fù)鋵W(xué)研究。我們認(rèn)為，嘗試對(duì)本期刊所理解的拓?fù)鋵W(xué)進(jìn)行明確的描述是不明智的。當(dāng)然，該主題包括拓?fù)鋵W(xué)的代數(shù)、一般、幾何和集合論方面，以及拓?fù)鋵W(xué)與其他數(shù)學(xué)學(xué)科之間的相互作用領(lǐng)域，例如拓?fù)浯鷶?shù)、拓?fù)鋭?dòng)力學(xué)、函數(shù)分析、范疇論。由于拓?fù)鋵W(xué)各個(gè)方面的作用不斷變化，因此主題的非特定劃分可以反映拓?fù)鋵W(xué)研究的現(xiàn)狀。

該期刊定期發(fā)布由 J. van Mill 和 G.M. Reed 編輯的名為“拓?fù)鋵W(xué)中的未解決的問題”的部分。這是 1990 年 North-Holland 出版的同名書中列出的 1100 個(gè)問題的狀態(tài)報(bào)告，由 van Mill 和 Reed 編輯。

在中科院分區(qū)表中，大類學(xué)科為數(shù)學(xué)4區(qū)， 小類學(xué)科為MATHEMATICS數(shù)學(xué)4區(qū)。

聲明：以上內(nèi)容來源于互聯(lián)網(wǎng)公開資料，如有不準(zhǔn)確之處，請(qǐng)聯(lián)系我們進(jìn)行修改。