《Journal Of Electron Spectroscopy And Related Phenomena》雜志的收稿范圍和要求是什么?
來源:優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2024-09-18 11:00:12 190人看過
《Journal Of Electron Spectroscopy And Related Phenomena》雜志收稿范圍涵蓋物理與天體物理全領(lǐng)域,此刊是該細(xì)分領(lǐng)域中屬于非常不錯的SCI期刊,在行業(yè)細(xì)分領(lǐng)域中學(xué)術(shù)影響力較大,專業(yè)度認(rèn)可很高,所以對原創(chuàng)文章要求創(chuàng)新性較高,如果您的文章質(zhì)量很高,可以嘗試。
平均審稿速度 較慢,6-12周 ,影響因子指數(shù)1.8。
該期刊近期沒有被列入國際期刊預(yù)警名單,廣大學(xué)者值得一試。
具體收稿要求需聯(lián)系雜志社或者咨詢本站客服,在線客服團(tuán)隊會及時為您答疑解惑,提供針對性的建議和解決方案。
出版商聯(lián)系方式:ELSEVIER SCIENCE BV, PO BOX 211, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1000 AE
其他數(shù)據(jù)
是否OA開放訪問: | h-index: | 年文章數(shù): |
未開放 | 80 | 74 |
Gold OA文章占比: | 2021-2022最新影響因子(數(shù)據(jù)來源于搜索引擎): | 開源占比(OA被引用占比): |
27.69% | 1.8 | 0.18... |
研究類文章占比:文章 ÷(文章 + 綜述) | 期刊收錄: | 中科院《國際期刊預(yù)警名單(試行)》名單: |
98.65% | SCIE | 否 |
歷年IF值(影響因子):
歷年引文指標(biāo)和發(fā)文量:
歷年中科院JCR大類分區(qū)數(shù)據(jù):
歷年自引數(shù)據(jù):
發(fā)文統(tǒng)計
2023-2024國家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計:
國家/地區(qū) | 數(shù)量 |
USA | 39 |
CHINA MAINLAND | 31 |
GERMANY (FED REP GER) | 30 |
India | 28 |
Japan | 26 |
Italy | 19 |
Russia | 15 |
Sweden | 15 |
France | 13 |
Poland | 12 |
2023-2024機(jī)構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計:
機(jī)構(gòu) | 數(shù)量 |
UNITED STATES DEPARTMENT OF ENER... | 12 |
CHINESE ACADEMY OF SCIENCES | 11 |
CONSIGLIO NAZIONALE DELLE RICERC... | 9 |
TECHNISCHE UNIVERSITAT WIEN | 9 |
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE ... | 8 |
HELMHOLTZ ASSOCIATION | 8 |
UPPSALA UNIVERSITY | 8 |
CZECH ACADEMY OF SCIENCES | 7 |
HUNAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY | 7 |
UNIVERSITY OF DELHI | 7 |
近年引用統(tǒng)計:
期刊名稱 | 數(shù)量 |
J ELECTRON SPECTROSC | 148 |
PHYS REV A | 148 |
PHYS REV LETT | 132 |
PHYS REV B | 131 |
J PHYS B-AT MOL OPT | 110 |
J CHEM PHYS | 102 |
SURF INTERFACE ANAL | 91 |
APPL SURF SCI | 56 |
SURF SCI | 54 |
ATOM DATA NUCL DATA | 51 |
近年被引用統(tǒng)計:
期刊名稱 | 數(shù)量 |
J PHYS CHEM C | 181 |
PHYS REV B | 154 |
J CHEM PHYS | 151 |
PHYS CHEM CHEM PHYS | 151 |
J ELECTRON SPECTROSC | 148 |
APPL SURF SCI | 139 |
ACS APPL MATER INTER | 89 |
PHYS REV A | 79 |
J PHYS CHEM A | 69 |
SURF INTERFACE ANAL | 64 |
近年文章引用統(tǒng)計:
文章名稱 | 數(shù)量 |
XPS in industry-Problems with bi... | 15 |
Chemical bonding in carbide MXen... | 14 |
Chemical surface analysis on mat... | 11 |
Imaging XPS for industrial appli... | 10 |
Automated electron-optical syste... | 10 |
Electronic and magnetic properti... | 9 |
Reliable absorbance measurement ... | 9 |
Electronic properties of composi... | 8 |
Investigation of local geometric... | 6 |
Effect of argon sputtering on XP... | 6 |
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