《Journal Of Vacuum Science & Technology A》雜志的收稿范圍和要求是什么?
來(lái)源:優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2024-09-18 11:01:44 1023人看過(guò)
《Journal Of Vacuum Science & Technology A》雜志收稿范圍涵蓋材料科學(xué)全領(lǐng)域,此刊是該細(xì)分領(lǐng)域中屬于非常不錯(cuò)的SCI期刊,在行業(yè)細(xì)分領(lǐng)域中學(xué)術(shù)影響力較大,專業(yè)度認(rèn)可很高,所以對(duì)原創(chuàng)文章要求創(chuàng)新性較高,如果您的文章質(zhì)量很高,可以嘗試。
平均審稿速度 一般,3-6周 ,影響因子指數(shù)2.4。
該期刊近期沒(méi)有被列入國(guó)際期刊預(yù)警名單,廣大學(xué)者值得一試。
具體收稿要求需聯(lián)系雜志社或者咨詢本站客服,在線客服團(tuán)隊(duì)會(huì)及時(shí)為您答疑解惑,提供針對(duì)性的建議和解決方案。
出版商聯(lián)系方式:A V S AMER INST PHYSICS, STE 1 NO 1, 2 HUNTINGTON QUADRANGLE, MELVILLE, USA, NY, 11747-4502
其他數(shù)據(jù)
是否OA開(kāi)放訪問(wèn): | h-index: | 年文章數(shù): |
未開(kāi)放 | 100 | 333 |
Gold OA文章占比: | 2021-2022最新影響因子(數(shù)據(jù)來(lái)源于搜索引擎): | 開(kāi)源占比(OA被引用占比): |
27.03% | 2.4 | 0.27... |
研究類文章占比:文章 ÷(文章 + 綜述) | 期刊收錄: | 中科院《國(guó)際期刊預(yù)警名單(試行)》名單: |
97.60% | SCIE | 否 |
歷年IF值(影響因子):
歷年引文指標(biāo)和發(fā)文量:
歷年中科院JCR大類分區(qū)數(shù)據(jù):
歷年自引數(shù)據(jù):
發(fā)文統(tǒng)計(jì)
2023-2024國(guó)家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計(jì):
國(guó)家/地區(qū) | 數(shù)量 |
USA | 368 |
Japan | 77 |
GERMANY (FED REP GER) | 61 |
South Korea | 56 |
France | 44 |
Sweden | 33 |
CHINA MAINLAND | 31 |
England | 29 |
Finland | 26 |
Netherlands | 26 |
2023-2024機(jī)構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計(jì):
機(jī)構(gòu) | 數(shù)量 |
UNITED STATES DEPARTMENT OF ENER... | 58 |
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE ... | 30 |
UNITED STATES DEPARTMENT OF DEFE... | 26 |
LINKOPING UNIVERSITY | 25 |
UNIVERSITY OF ILLINOIS SYSTEM | 24 |
UNIVERSITY OF CALIFORNIA SYSTEM | 20 |
CEA | 18 |
UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM | 17 |
UNIVERSITY SYSTEM OF MARYLAND | 17 |
LAM RESEARCH CORPORATION | 16 |
近年引用統(tǒng)計(jì):
期刊名稱 | 數(shù)量 |
J VAC SCI TECHNOL A | 658 |
J APPL PHYS | 549 |
APPL PHYS LETT | 448 |
THIN SOLID FILMS | 363 |
PHYS REV B | 338 |
SURF COAT TECH | 277 |
CHEM MATER | 221 |
APPL SURF SCI | 202 |
J ELECTROCHEM SOC | 168 |
J VAC SCI TECHNOL B | 141 |
近年被引用統(tǒng)計(jì):
期刊名稱 | 數(shù)量 |
J VAC SCI TECHNOL A | 658 |
THIN SOLID FILMS | 321 |
SURF COAT TECH | 303 |
APPL SURF SCI | 280 |
JPN J APPL PHYS | 253 |
J APPL PHYS | 217 |
J PHYS CHEM C | 201 |
VACUUM | 185 |
CHEM MATER | 155 |
ACS APPL MATER INTER | 149 |
近年文章引用統(tǒng)計(jì):
文章名稱 | 數(shù)量 |
Review Article: Stress in thin f... | 72 |
Status and prospects of plasma-a... | 26 |
Practical guides for x-ray photo... | 23 |
Functional model for analysis of... | 19 |
Review Article: Catalysts design... | 16 |
Paradigm shift in thin-film grow... | 14 |
Review Article: Atomic layer dep... | 14 |
Atomic layer deposition of silic... | 13 |
Review Article: Crystal alignmen... | 12 |
Vapor-deposited octadecanethiol ... | 11 |
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