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《Ieee Photonics Technology Letters》雜志影響錄用的因素有哪些?

來源:優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2024-09-18 10:50:42 733人看過

《Ieee Photonics Technology Letters》雜志是一本專注于工程技術(shù)領(lǐng)域的高質(zhì)量期刊,該雜志的錄用率受多種因素影響,想具體了解可聯(lián)系雜志社或咨詢在線客服。

《Ieee Photonics Technology Letters》雜志的錄用率受多種因素影響,具體如下:

年發(fā)文量:《Ieee Photonics Technology Letters》雜志年發(fā)文量為:359篇。年發(fā)文量較大的期刊,相對(duì)而言錄用率會(huì)高一些。

質(zhì)量與創(chuàng)新性:論文的科學(xué)性、嚴(yán)謹(jǐn)性、數(shù)據(jù)可靠性以及創(chuàng)新性是關(guān)鍵。

期刊分區(qū):《Ieee Photonics Technology Letters》雜志在中科院的分區(qū)為3區(qū),而在JCR的分區(qū)為Q2。

論文質(zhì)量:包括研究設(shè)計(jì)的合理性、數(shù)據(jù)的可靠性、分析方法的科學(xué)性等。

影響力與排名:《Ieee Photonics Technology Letters》雜志IF影響因子為:2.3。高影響力的期刊通常對(duì)論文質(zhì)量要求更高,錄用率相對(duì)較低。

審稿流程:嚴(yán)格的多輪審稿流程會(huì)篩選掉部分稿件,導(dǎo)致錄用率下降。

投稿數(shù)量:在特定時(shí)期內(nèi),若大量研究者集中向某期刊投稿,會(huì)導(dǎo)致稿件堆積,錄用率下降。

SCI期刊的錄用率受多重因素影響,作者應(yīng)根據(jù)自身研究特點(diǎn)選擇合適的期刊,并確保稿件質(zhì)量以提高錄用機(jī)會(huì),投稿前務(wù)必仔細(xì)閱讀期刊的投稿指南,并與雜志社保持良好溝通。

《Ieee Photonics Technology Letters》雜志簡介

中文簡稱:IEEE 光子技術(shù)快報(bào)
國際標(biāo)準(zhǔn)簡稱:IEEE PHOTONIC TECH L
出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
出版周期:Monthly
出版年份:1989年
出版地區(qū):UNITED STATES
ISSN:1041-1135
ESSN:1941-0174
研究方向:工程技術(shù) - 工程:電子與電氣

IEEE 光子技術(shù)快報(bào)涉及 IEEE 光子學(xué)會(huì)憲法領(lǐng)域的所有方面,重點(diǎn)關(guān)注光子/光波組件和應(yīng)用、激光物理和系統(tǒng)以及激光/電光技術(shù)。上述重點(diǎn)領(lǐng)域的主題領(lǐng)域示例包括集成光學(xué)和光電子器件、高功率激光陣列(例如二極管、CO2)、自由電子激光器、固態(tài)激光器、激光材料相互作用和飛秒激光技術(shù)。該快報(bào)期刊發(fā)表工程、應(yīng)用物理和物理導(dǎo)向論文。重點(diǎn)是及時(shí)發(fā)表手稿。目標(biāo)是提供其他快速出版期刊所沒有的電光領(lǐng)域高質(zhì)量工程導(dǎo)向論文的焦點(diǎn)。

在中科院分區(qū)表中,大類學(xué)科為工程技術(shù)3區(qū), 小類學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工程:電子與電氣3區(qū)。

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023年12月升級(jí)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

名詞解釋:
中科院分區(qū)也叫中科院JCR分區(qū),基礎(chǔ)版分為13個(gè)大類學(xué)科,然后按照各類期刊影響因子分別將每個(gè)類別分為四個(gè)區(qū),影響因子5%為1區(qū),6%-20%為2區(qū),21%-50%為3區(qū),其余為4區(qū)。

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2022年12月升級(jí)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月舊的升級(jí)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月基礎(chǔ)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 3區(qū) 4區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月升級(jí)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2020年12月舊的升級(jí)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

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