《Infrared Physics & Technology》雜志影響錄用的因素有哪些?
來(lái)源:優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2024-09-18 10:58:48 744人看過(guò)
《Infrared Physics & Technology》雜志是一本專注于物理與天體物理領(lǐng)域的高質(zhì)量期刊,該雜志的錄用率受多種因素影響,想具體了解可聯(lián)系雜志社或咨詢在線客服。
《Infrared Physics & Technology》雜志的錄用率受多種因素影響,具體如下:
年發(fā)文量:《Infrared Physics & Technology》雜志年發(fā)文量為:475篇。年發(fā)文量較大的期刊,相對(duì)而言錄用率會(huì)高一些。
質(zhì)量與創(chuàng)新性:論文的科學(xué)性、嚴(yán)謹(jǐn)性、數(shù)據(jù)可靠性以及創(chuàng)新性是關(guān)鍵。
期刊分區(qū):《Infrared Physics & Technology》雜志在中科院的分區(qū)為3區(qū),而在JCR的分區(qū)為Q2。
論文質(zhì)量:包括研究設(shè)計(jì)的合理性、數(shù)據(jù)的可靠性、分析方法的科學(xué)性等。
影響力與排名:《Infrared Physics & Technology》雜志IF影響因子為:3.1。高影響力的期刊通常對(duì)論文質(zhì)量要求更高,錄用率相對(duì)較低。
審稿流程:嚴(yán)格的多輪審稿流程會(huì)篩選掉部分稿件,導(dǎo)致錄用率下降。
投稿數(shù)量:在特定時(shí)期內(nèi),若大量研究者集中向某期刊投稿,會(huì)導(dǎo)致稿件堆積,錄用率下降。
SCI期刊的錄用率受多重因素影響,作者應(yīng)根據(jù)自身研究特點(diǎn)選擇合適的期刊,并確保稿件質(zhì)量以提高錄用機(jī)會(huì),投稿前務(wù)必仔細(xì)閱讀期刊的投稿指南,并與雜志社保持良好溝通。
《Infrared Physics & Technology》雜志簡(jiǎn)介
中文簡(jiǎn)稱:紅外物理與技術(shù)
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)稱:INFRARED PHYS TECHN
出版商:Elsevier
出版周期:Bimonthly
出版年份:1994年
出版地區(qū):NETHERLANDS
ISSN:1350-4495
ESSN:1879-0275
研究方向:光學(xué) - 物理
本期刊涵蓋紅外物理和技術(shù)的整個(gè)領(lǐng)域:理論、實(shí)驗(yàn)、應(yīng)用、設(shè)備和儀器。紅外的定義涵蓋從 0.75 微米 (750nm) 到 1 毫米 (300GHz) 的近紅外、中紅外和遠(yuǎn)紅外 (太赫茲) 區(qū)域。如果內(nèi)容與較短波長(zhǎng)相關(guān),則編輯可酌情接受 300GHz 至 100GHz 區(qū)域的投稿。投稿必須主要關(guān)注并直接與此光譜區(qū)域相關(guān)。
其核心主題可以概括為紅外輻射的產(chǎn)生、傳播和檢測(cè);相關(guān)的光學(xué)、材料和設(shè)備;以及它在科學(xué)、工業(yè)、工程和醫(yī)學(xué)所有領(lǐng)域的應(yīng)用。
紅外技術(shù)出現(xiàn)在許多不同的領(lǐng)域,特別是光譜學(xué)和干涉測(cè)量法;材料特性和加工;大氣物理學(xué)、天文學(xué)和空間研究??茖W(xué)方面包括激光、量子光學(xué)、量子電子學(xué)、圖像處理和半導(dǎo)體物理學(xué)。一些重要的應(yīng)用是醫(yī)療診斷和治療、工業(yè)檢測(cè)和環(huán)境監(jiān)測(cè)。
在中科院分區(qū)表中,大類學(xué)科為物理與天體物理3區(qū), 小類學(xué)科為INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION儀器儀表3區(qū)。
中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023年12月升級(jí)版)
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 3區(qū) | INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
名詞解釋:
中科院分區(qū)也叫中科院JCR分區(qū),基礎(chǔ)版分為13個(gè)大類學(xué)科,然后按照各類期刊影響因子分別將每個(gè)類別分為四個(gè)區(qū),影響因子5%為1區(qū),6%-20%為2區(qū),21%-50%為3區(qū),其余為4區(qū)。
中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2022年12月升級(jí)版)
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 2區(qū) | INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月舊的升級(jí)版)
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 2區(qū) | INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月基礎(chǔ)版)
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理 | 3區(qū) | INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月升級(jí)版)
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 2區(qū) | INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2020年12月舊的升級(jí)版)
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 2區(qū) | OPTICS 光學(xué) INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
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