《International Journal Of Optomechatronics》雜志影響錄用的因素有哪些？
來源：優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2024-09-18 10:59:10 257人看過
《International Journal Of Optomechatronics》雜志是一本專注于工程技術(shù)領(lǐng)域的高質(zhì)量期刊，該雜志的錄用率受多種因素影響，想具體了解可聯(lián)系雜志社或咨詢在線客服。
《International Journal Of Optomechatronics》雜志的錄用率受多種因素影響，具體如下：
年發(fā)文量：《International Journal Of Optomechatronics》雜志年發(fā)文量為：12篇。年發(fā)文量較大的期刊，相對而言錄用率會高一些。
質(zhì)量與創(chuàng)新性：論文的科學(xué)性、嚴(yán)謹(jǐn)性、數(shù)據(jù)可靠性以及創(chuàng)新性是關(guān)鍵。
期刊分區(qū)：《International Journal Of Optomechatronics》雜志在中科院的分區(qū)為3區(qū)，而在JCR的分區(qū)為Q1。
論文質(zhì)量：包括研究設(shè)計的合理性、數(shù)據(jù)的可靠性、分析方法的科學(xué)性等。
影響力與排名：《International Journal Of Optomechatronics》雜志IF影響因子為：6.7。高影響力的期刊通常對論文質(zhì)量要求更高，錄用率相對較低。
審稿流程：嚴(yán)格的多輪審稿流程會篩選掉部分稿件，導(dǎo)致錄用率下降。
投稿數(shù)量：在特定時期內(nèi)，若大量研究者集中向某期刊投稿，會導(dǎo)致稿件堆積，錄用率下降。
SCI期刊的錄用率受多重因素影響，作者應(yīng)根據(jù)自身研究特點選擇合適的期刊，并確保稿件質(zhì)量以提高錄用機(jī)會，投稿前務(wù)必仔細(xì)閱讀期刊的投稿指南，并與雜志社保持良好溝通。
《International Journal Of Optomechatronics》雜志簡介
中文簡稱：國際光機(jī)電一體化雜志
國際標(biāo)準(zhǔn)簡稱：INT J OPTOMECHATRONI
出版商：Taylor and Francis Ltd.
出版周期：Quarterly
出版年份：2007年
出版地區(qū)：UNITED STATES
ISSN：1559-9612
ESSN：1559-9620
研究方向：工程技術(shù) - 工程：電子與電氣
《國際光機(jī)電一體化雜志》發(fā)表了光學(xué)、力學(xué)、流體學(xué)和電子學(xué)交叉領(lǐng)域的多學(xué)科研究的最新成果。
您可以提交的主題包括但不限于：
-自適應(yīng)光學(xué)-
光力學(xué)-
機(jī)器視覺、跟蹤和控制-
基于圖像的微/納米操縱-
光機(jī)電一體化控制工程-
光學(xué)計量學(xué)-
光學(xué)傳感器和基于光的執(zhí)行器-
用于天文學(xué)和空間應(yīng)用的光機(jī)電一體化-
基于光學(xué)的檢查和故障診斷-
微/納米光機(jī)電系統(tǒng)（MOEMS）-
光流體學(xué)-
光學(xué)組裝和封裝-
基于光學(xué)和視覺的制造、工藝、監(jiān)控和控制-
生物和醫(yī)學(xué)技術(shù)中的光機(jī)電一體化系統(tǒng)（例如光學(xué)相干斷層掃描 (OCT) 系統(tǒng)或內(nèi)窺鏡和基于光學(xué)的醫(yī)療器械）
在中科院分區(qū)表中，大類學(xué)科為工程技術(shù)3區(qū)， 小類學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工程：電子與電氣3區(qū)。
中科院分區(qū)（數(shù)據(jù)版本：2023年12月升級版）
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 ENGINEERING, MECHANICAL 工程：機(jī)械 OPTICS 光學(xué) | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
名詞解釋：
中科院分區(qū)也叫中科院JCR分區(qū)，基礎(chǔ)版分為13個大類學(xué)科，然后按照各類期刊影響因子分別將每個類別分為四個區(qū)，影響因子5%為1區(qū)，6%-20%為2區(qū)，21%-50%為3區(qū)，其余為4區(qū)。
中科院分區(qū)（數(shù)據(jù)版本：2022年12月升級版）
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 ENGINEERING, MECHANICAL 工程：機(jī)械 OPTICS 光學(xué) | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)（數(shù)據(jù)版本：2021年12月舊的升級版）
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 ENGINEERING, MECHANICAL 工程：機(jī)械 OPTICS 光學(xué) | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)（數(shù)據(jù)版本：2021年12月基礎(chǔ)版）
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 ENGINEERING, MECHANICAL 工程：機(jī)械 OPTICS 光學(xué) | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)（數(shù)據(jù)版本：2021年12月升級版）
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 ENGINEERING, MECHANICAL 工程：機(jī)械 OPTICS 光學(xué) | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)（數(shù)據(jù)版本：2020年12月舊的升級版）
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 ENGINEERING, MECHANICAL 工程：機(jī)械 OPTICS 光學(xué) | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
聲明：以上內(nèi)容來源于互聯(lián)網(wǎng)公開資料，如有不準(zhǔn)確之處，請聯(lián)系我們進(jìn)行修改。
