《Photonics And Nanostructures-fundamentals And Applications》雜志好發(fā)表嗎？
來源：優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2024-09-18 11:03:49 550人看過
《Photonics And Nanostructures-fundamentals And Applications》雜志是一本專注于物理與天體物理領域的期刊，發(fā)表難度因多種因素而異，以下是具體分析：
本期刊為對光子學和納米結(jié)構(gòu)感興趣的物理學家、材料科學家、化學家、工程師和計算機科學家建立了一個專用渠道，尤其是對與光子晶體、光子帶隙和超材料相關的研究感興趣的物理學家、材料科學家、化學家、工程師和計算機科學家。本期刊揭示了這一不斷發(fā)展的科學領域的最新發(fā)展，該領域?qū)⒊霈F(xiàn)更快的電信，并最終出現(xiàn)使用光而不是電子來連接組件的計算機。
發(fā)表難度
影響因子與分區(qū)：《Photonics And Nanostructures-fundamentals And Applications》雜志的影響因子為2.5，屬于JCR分區(qū)Q2區(qū)，中科院分區(qū)中大類學科物理與天體物理為3區(qū)， 小類學科PHYSICS, APPLIED物理：應用為3區(qū)，較高的影響因子和較好的分區(qū)表明其在學術界具有較高的影響力和認可度，因此對稿件的質(zhì)量要求也相對較高，發(fā)表難度較大。
歷年IF值(影響因子)：
WOS分區(qū)（數(shù)據(jù)版本：2023-2024年最新版）
| 按JIF指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q3 | 257 / 438 |
41.4% |
| 學科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 99 / 140 |
29.6% |
| 學科：OPTICS | SCIE | Q2 | 49 / 119 |
59.2% |
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 87 / 179 |
51.7% |
| 按JCI指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q2 | 214 / 438 |
51.26% |
| 學科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 71 / 140 |
49.64% |
| 學科：OPTICS | SCIE | Q2 | 60 / 120 |
50.42% |
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 79 / 179 |
56.15% |
名詞解釋：
WOS即Web of Science，是全球獲取學術信息的重要數(shù)據(jù)庫，Web of Science包括自然科學、社會科學、藝術與人文領域的信息，來自全世界近9,000種最負盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學術會議多學科內(nèi)容。給期刊分區(qū)時會按照某一個學科領域劃分，根據(jù)這一學科所有按照影響因子數(shù)值降序排名，然后平均分成4等份，期刊影響因子值高的就會在高分區(qū)中，最后的劃分結(jié)果分別是Q1，Q2，Q3，Q4，Q1代表質(zhì)量最高。
審稿周期預計：平均審稿速度 較慢,6-12周 約10周，審稿周期也體現(xiàn)了編輯部對稿件質(zhì)量的嚴格把關。
發(fā)表建議
提高稿件質(zhì)量：確保研究內(nèi)容具有創(chuàng)新性和學術價值，語言表達清晰準確，符合雜志物理：應用的格式和要求。
提前準備：根據(jù)審稿周期，建議作者提前規(guī)劃好研究和寫作進度，以便有足夠的時間進行修改和補充。同時，可以關注《Photonics And Nanostructures-fundamentals And Applications》雜志的約稿信息，如果能夠獲得約稿機會，發(fā)表的可能性會更大。
聲明：以上內(nèi)容來源于互聯(lián)網(wǎng)公開資料，如有不準確之處，請聯(lián)系我們進行修改。
