《Journal Of Applied Crystallography》雜志好發(fā)表嗎？
來源：優(yōu)發(fā)表網整理 2024-09-18 10:59:39 206人看過
《Journal Of Applied Crystallography》雜志是一本專注于材料科學領域的期刊，發(fā)表難度因多種因素而異，以下是具體分析：
凝聚態(tài)研究、材料科學和生命科學中的許多研究課題都利用晶體學方法研究晶體和非晶體物質，包括中子、X 射線和電子?！稇镁w學雜志》上發(fā)表的文章重點介紹了這些方法及其在識別結構和擴散控制相變、結構-性能關系、缺陷、界面和表面的結構變化等方面的應用。還涵蓋了儀器和晶體學設備的發(fā)展、理論和解釋、數值分析和其他相關主題。該雜志是發(fā)表晶體學計算機程序信息的主要場所。
發(fā)表難度
影響因子與分區(qū)：《Journal Of Applied Crystallography》雜志的影響因子為5.2，屬于JCR分區(qū)Q1區(qū)，中科院分區(qū)中大類學科材料科學為3區(qū)， 小類學科CRYSTALLOGRAPHY晶體學為2區(qū)，較高的影響因子和較好的分區(qū)表明其在學術界具有較高的影響力和認可度，因此對稿件的質量要求也相對較高，發(fā)表難度較大。
歷年IF值(影響因子)：
WOS分區(qū)（數據版本：2023-2024年最新版）
| 按JIF指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q2 | 66 / 230 |
71.5% |
| 學科：CRYSTALLOGRAPHY | SCIE | Q1 | 2 / 33 |
95.5% |
| 按JCI指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q1 | 25 / 231 |
89.39% |
| 學科：CRYSTALLOGRAPHY | SCIE | Q1 | 1 / 33 |
98.48% |
名詞解釋：
WOS即Web of Science，是全球獲取學術信息的重要數據庫，Web of Science包括自然科學、社會科學、藝術與人文領域的信息，來自全世界近9,000種最負盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學術會議多學科內容。給期刊分區(qū)時會按照某一個學科領域劃分，根據這一學科所有按照影響因子數值降序排名，然后平均分成4等份，期刊影響因子值高的就會在高分區(qū)中，最后的劃分結果分別是Q1，Q2，Q3，Q4，Q1代表質量最高。
審稿周期預計：平均審稿速度 ，審稿周期也體現了編輯部對稿件質量的嚴格把關。
發(fā)表建議
提高稿件質量：確保研究內容具有創(chuàng)新性和學術價值，語言表達清晰準確，符合雜志晶體學的格式和要求。
提前準備：根據審稿周期，建議作者提前規(guī)劃好研究和寫作進度，以便有足夠的時間進行修改和補充。同時，可以關注《Journal Of Applied Crystallography》雜志的約稿信息，如果能夠獲得約稿機會，發(fā)表的可能性會更大。
聲明：以上內容來源于互聯網公開資料，如有不準確之處，請聯系我們進行修改。
