《Journal Of Applied Crystallography》雜志好發(fā)表嗎？
來源：優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2024-09-18 10:59:39 181人看過
《Journal Of Applied Crystallography》雜志是一本專注于材料科學(xué)領(lǐng)域的期刊，發(fā)表難度因多種因素而異，以下是具體分析：
凝聚態(tài)研究、材料科學(xué)和生命科學(xué)中的許多研究課題都利用晶體學(xué)方法研究晶體和非晶體物質(zhì)，包括中子、X 射線和電子?！稇?yīng)用晶體學(xué)雜志》上發(fā)表的文章重點(diǎn)介紹了這些方法及其在識(shí)別結(jié)構(gòu)和擴(kuò)散控制相變、結(jié)構(gòu)-性能關(guān)系、缺陷、界面和表面的結(jié)構(gòu)變化等方面的應(yīng)用。還涵蓋了儀器和晶體學(xué)設(shè)備的發(fā)展、理論和解釋、數(shù)值分析和其他相關(guān)主題。該雜志是發(fā)表晶體學(xué)計(jì)算機(jī)程序信息的主要場(chǎng)所。
發(fā)表難度
影響因子與分區(qū)：《Journal Of Applied Crystallography》雜志的影響因子為5.2，屬于JCR分區(qū)Q1區(qū)，中科院分區(qū)中大類學(xué)科材料科學(xué)為3區(qū)， 小類學(xué)科CRYSTALLOGRAPHY晶體學(xué)為2區(qū)，較高的影響因子和較好的分區(qū)表明其在學(xué)術(shù)界具有較高的影響力和認(rèn)可度，因此對(duì)稿件的質(zhì)量要求也相對(duì)較高，發(fā)表難度較大。
歷年IF值(影響因子)：
WOS分區(qū)（數(shù)據(jù)版本：2023-2024年最新版）
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q2 | 66 / 230 |
71.5% |
| 學(xué)科：CRYSTALLOGRAPHY | SCIE | Q1 | 2 / 33 |
95.5% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q1 | 25 / 231 |
89.39% |
| 學(xué)科：CRYSTALLOGRAPHY | SCIE | Q1 | 1 / 33 |
98.48% |
名詞解釋：
WOS即Web of Science，是全球獲取學(xué)術(shù)信息的重要數(shù)據(jù)庫，Web of Science包括自然科學(xué)、社會(huì)科學(xué)、藝術(shù)與人文領(lǐng)域的信息，來自全世界近9,000種最負(fù)盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學(xué)術(shù)會(huì)議多學(xué)科內(nèi)容。給期刊分區(qū)時(shí)會(huì)按照某一個(gè)學(xué)科領(lǐng)域劃分，根據(jù)這一學(xué)科所有按照影響因子數(shù)值降序排名，然后平均分成4等份，期刊影響因子值高的就會(huì)在高分區(qū)中，最后的劃分結(jié)果分別是Q1，Q2，Q3，Q4，Q1代表質(zhì)量最高。
審稿周期預(yù)計(jì)：平均審稿速度 ，審稿周期也體現(xiàn)了編輯部對(duì)稿件質(zhì)量的嚴(yán)格把關(guān)。
發(fā)表建議
提高稿件質(zhì)量：確保研究?jī)?nèi)容具有創(chuàng)新性和學(xué)術(shù)價(jià)值，語言表達(dá)清晰準(zhǔn)確，符合雜志晶體學(xué)的格式和要求。
提前準(zhǔn)備：根據(jù)審稿周期，建議作者提前規(guī)劃好研究和寫作進(jìn)度，以便有足夠的時(shí)間進(jìn)行修改和補(bǔ)充。同時(shí)，可以關(guān)注《Journal Of Applied Crystallography》雜志的約稿信息，如果能夠獲得約稿機(jī)會(huì)，發(fā)表的可能性會(huì)更大。
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