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《Journal Of Infrared Millimeter And Terahertz Waves》雜志影響錄用的因素有哪些?

來源:優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2024-09-18 11:00:33 234人看過

《Journal Of Infrared Millimeter And Terahertz Waves》雜志是一本專注于工程技術(shù)領(lǐng)域的高質(zhì)量期刊,該雜志的錄用率受多種因素影響,想具體了解可聯(lián)系雜志社或咨詢在線客服。

《Journal Of Infrared Millimeter And Terahertz Waves》雜志的錄用率受多種因素影響,具體如下:

年發(fā)文量:《Journal Of Infrared Millimeter And Terahertz Waves》雜志年發(fā)文量為:59篇。年發(fā)文量較大的期刊,相對而言錄用率會高一些。

質(zhì)量與創(chuàng)新性:論文的科學(xué)性、嚴(yán)謹(jǐn)性、數(shù)據(jù)可靠性以及創(chuàng)新性是關(guān)鍵。

期刊分區(qū):《Journal Of Infrared Millimeter And Terahertz Waves》雜志在中科院的分區(qū)為3區(qū),而在JCR的分區(qū)為Q3。

論文質(zhì)量:包括研究設(shè)計的合理性、數(shù)據(jù)的可靠性、分析方法的科學(xué)性等。

影響力與排名:《Journal Of Infrared Millimeter And Terahertz Waves》雜志IF影響因子為:1.8。高影響力的期刊通常對論文質(zhì)量要求更高,錄用率相對較低。

審稿流程:嚴(yán)格的多輪審稿流程會篩選掉部分稿件,導(dǎo)致錄用率下降。

投稿數(shù)量:在特定時期內(nèi),若大量研究者集中向某期刊投稿,會導(dǎo)致稿件堆積,錄用率下降。

SCI期刊的錄用率受多重因素影響,作者應(yīng)根據(jù)自身研究特點選擇合適的期刊,并確保稿件質(zhì)量以提高錄用機會,投稿前務(wù)必仔細閱讀期刊的投稿指南,并與雜志社保持良好溝通。

《Journal Of Infrared Millimeter And Terahertz Waves》雜志簡介

中文簡稱:紅外毫米波和太赫茲波雜志
國際標(biāo)準(zhǔn)簡稱:J INFRARED MILLIM TE
出版商:Springer US
出版周期:Monthly
出版年份:1980年
出版地區(qū):UNITED STATES
ISSN:1866-6892
ESSN:1866-6906
研究方向:工程技術(shù) - 工程:電子與電氣

《紅外、毫米波和太赫茲波雜志》提供了一個同行評審的平臺,用于快速傳播 30 GHz 至 30 THz 頻率范圍內(nèi)的原創(chuàng)高質(zhì)量研究。涵蓋的主題包括:源、探測器和其他設(shè)備;系統(tǒng)、光譜學(xué)、傳感、電磁波與物質(zhì)之間的相互作用、應(yīng)用、計量學(xué)和通信。

純數(shù)值工作,尤其是使用商業(yè)軟件包的工作,只有在非常特殊的情況下才會發(fā)表。這同樣適用于僅描述算法(例如模式識別算法)的手稿。

提交給該雜志的手稿應(yīng)討論紅外、毫米波和太赫茲波領(lǐng)域的重大進展。

在中科院分區(qū)表中,大類學(xué)科為工程技術(shù)3區(qū), 小類學(xué)科為OPTICS光學(xué)3區(qū)。

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023年12月升級版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū)

名詞解釋:
中科院分區(qū)也叫中科院JCR分區(qū),基礎(chǔ)版分為13個大類學(xué)科,然后按照各類期刊影響因子分別將每個類別分為四個區(qū),影響因子5%為1區(qū),6%-20%為2區(qū),21%-50%為3區(qū),其余為4區(qū)。

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2022年12月升級版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月舊的升級版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月基礎(chǔ)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月升級版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2020年12月舊的升級版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū)

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