《Ieee Photonics Journal》雜志影響錄用的因素有哪些?
來源:優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2024-09-18 10:51:09 725人看過
《Ieee Photonics Journal》雜志是一本專注于工程技術(shù)領(lǐng)域的高質(zhì)量期刊,該雜志的錄用率受多種因素影響,想具體了解可聯(lián)系雜志社或咨詢在線客服。
《Ieee Photonics Journal》雜志的錄用率受多種因素影響,具體如下:
年發(fā)文量:《Ieee Photonics Journal》雜志年發(fā)文量為:347篇。年發(fā)文量較大的期刊,相對(duì)而言錄用率會(huì)高一些。
質(zhì)量與創(chuàng)新性:論文的科學(xué)性、嚴(yán)謹(jǐn)性、數(shù)據(jù)可靠性以及創(chuàng)新性是關(guān)鍵。
期刊分區(qū):《Ieee Photonics Journal》雜志在中科院的分區(qū)為4區(qū),而在JCR的分區(qū)為Q2。
論文質(zhì)量:包括研究設(shè)計(jì)的合理性、數(shù)據(jù)的可靠性、分析方法的科學(xué)性等。
影響力與排名:《Ieee Photonics Journal》雜志IF影響因子為:2.1。高影響力的期刊通常對(duì)論文質(zhì)量要求更高,錄用率相對(duì)較低。
審稿流程:嚴(yán)格的多輪審稿流程會(huì)篩選掉部分稿件,導(dǎo)致錄用率下降。
投稿數(shù)量:在特定時(shí)期內(nèi),若大量研究者集中向某期刊投稿,會(huì)導(dǎo)致稿件堆積,錄用率下降。
SCI期刊的錄用率受多重因素影響,作者應(yīng)根據(jù)自身研究特點(diǎn)選擇合適的期刊,并確保稿件質(zhì)量以提高錄用機(jī)會(huì),投稿前務(wù)必仔細(xì)閱讀期刊的投稿指南,并與雜志社保持良好溝通。
《Ieee Photonics Journal》雜志簡(jiǎn)介
中文簡(jiǎn)稱:IEEE光子學(xué)雜志
國際標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)稱:IEEE PHOTONICS J
出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
出版周期:6 issues/year
出版年份:2009年
出版地區(qū):UNITED STATES
ISSN:1943-0655
ESSN:1943-0647
研究方向:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC - OPTICS
光的產(chǎn)生、控制和利用方面的突破催生了光子學(xué)領(lǐng)域,這是一個(gè)發(fā)展迅速的科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域,對(duì)技術(shù)和經(jīng)濟(jì)產(chǎn)生了重大影響。光子學(xué)將量子電子學(xué)和光學(xué)相結(jié)合,以加速新型光子源的產(chǎn)生及其在微觀和納米尺度新興應(yīng)用中的利用,這些應(yīng)用范圍從遠(yuǎn)紅外/太赫茲到電磁波譜的 x 射線區(qū)域。IEEE 光子學(xué)雜志是一本在線期刊,致力于快速披露光子學(xué)所有領(lǐng)域最前沿的高質(zhì)量同行評(píng)審研究。該期刊涵蓋從基礎(chǔ)理解到新興技術(shù)和應(yīng)用等各種問題的投稿。該期刊包括以下主題:從遠(yuǎn)紅外到 X 射線的光子源、光子材料和工程光子結(jié)構(gòu)、集成光學(xué)和光電子、超快、阿秒、高場(chǎng)和短波光子學(xué)、生物光子學(xué)(包括 DNA 光子學(xué))、納米光子學(xué)、磁光子學(xué)、光傳播和相互作用的基本原理;非線性效應(yīng)、光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、光纖和光通信設(shè)備、系統(tǒng)和技術(shù)、微光機(jī)電系統(tǒng) (MOEMS)、微波光子學(xué)、光學(xué)傳感器。
在中科院分區(qū)表中,大類學(xué)科為工程技術(shù)4區(qū), 小類學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工程:電子與電氣4區(qū)。
中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023年12月升級(jí)版)
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
名詞解釋:
中科院分區(qū)也叫中科院JCR分區(qū),基礎(chǔ)版分為13個(gè)大類學(xué)科,然后按照各類期刊影響因子分別將每個(gè)類別分為四個(gè)區(qū),影響因子5%為1區(qū),6%-20%為2區(qū),21%-50%為3區(qū),其余為4區(qū)。
中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2022年12月升級(jí)版)
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月舊的升級(jí)版)
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月基礎(chǔ)版)
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月升級(jí)版)
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2020年12月舊的升級(jí)版)
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 3區(qū) | OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 | 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
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