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發(fā)表《Journal Of Vacuum Science And Technology B:nanotechnology And Microelectronics》雜志多久能被SCI數(shù)據(jù)庫(kù)收錄?

來源:優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2024-09-18 11:19:01 85人看過

通常情況下,《Journal Of Vacuum Science And Technology B:nanotechnology And Microelectronics》雜志發(fā)表的文章被SCIE數(shù)據(jù)庫(kù)收錄的時(shí)間沒有固定標(biāo)準(zhǔn),若想了解詳細(xì)、準(zhǔn)確的具體情況,建議直接與雜志社取得聯(lián)系或者向在線客服進(jìn)行咨詢。

多久能被SCI數(shù)據(jù)庫(kù)一般可以歸納出以下情況:

論文發(fā)表后到在線時(shí)間:SCI論文發(fā)表后,一般需要大約3個(gè)月的時(shí)間才能在期刊官網(wǎng)上線,這是論文初次對(duì)外公開的時(shí)間點(diǎn)。

在線后到數(shù)據(jù)庫(kù)檢索時(shí)間:論文在線后,通常還需要1-3個(gè)月的時(shí)間才能在Web of Science(WOS)數(shù)據(jù)庫(kù)中檢索到,這個(gè)過程被稱為論文的索引或收錄。

整體時(shí)間周期:從投稿到論文被SCI數(shù)據(jù)庫(kù)收錄,整個(gè)周期大概需要一年左右的時(shí)間。具體來說,投稿后可能需要5-6個(gè)月收到接收通知,然后經(jīng)過2-3個(gè)月論文會(huì)在官網(wǎng)上線,再之后2-3個(gè)月論文會(huì)被WOS數(shù)據(jù)庫(kù)收錄。

然而,這個(gè)時(shí)間周期并不是絕對(duì)的,它受到多種因素的影響,如:期刊類型、論文質(zhì)量、數(shù)據(jù)庫(kù)更新等。

《Journal Of Vacuum Science And Technology B:nanotechnology And Microelectronics》雜志已被SCIE國(guó)際知名數(shù)據(jù)庫(kù)收錄,在CiteScore評(píng)價(jià)中位于Engineering學(xué)科的Q3區(qū)Engineering學(xué)科的Q3區(qū)Engineering學(xué)科的Q3區(qū)Engineering學(xué)科的Q3區(qū)Engineering學(xué)科的Q3區(qū)Engineering學(xué)科的Q3區(qū)具有較高的學(xué)術(shù)影響力,在該領(lǐng)域受到廣泛認(rèn)可。

CiteScore分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2024年最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore排名
2.7 0.328 0.702
學(xué)科 分區(qū) 排名 百分位
大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q3 448 / 797

43%

大類:Engineering 小類:Materials Chemistry Q3 192 / 317

39%

大類:Engineering 小類:Instrumentation Q3 86 / 141

39%

大類:Engineering 小類:Surfaces, Coatings and Films Q3 82 / 132

38%

大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q3 178 / 284

37%

大類:Engineering 小類:Process Chemistry and Technology Q3 47 / 73

36%

名詞解釋:
CiteScore:衡量期刊所發(fā)表文獻(xiàn)的平均受引用次數(shù)。
SJR:SCImago 期刊等級(jí)衡量經(jīng)過加權(quán)后的期刊受引用次數(shù)。引用次數(shù)的加權(quán)值由施引期刊的學(xué)科領(lǐng)域和聲望 (SJR) 決定。
SNIP:每篇文章中來源出版物的標(biāo)準(zhǔn)化影響將實(shí)際受引用情況對(duì)照期刊所屬學(xué)科領(lǐng)域中預(yù)期的受引用情況進(jìn)行衡量。

作為一本專注于Materials Science - Materials Chemistry領(lǐng)域的學(xué)術(shù)期刊,它致力于發(fā)表高質(zhì)量的研究論文和為相關(guān)領(lǐng)域的研究人員提供重要的學(xué)術(shù)資源。

1983年,《真空科學(xué)技術(shù)雜志》A和B兩種期刊在原《真空科學(xué)與技術(shù)雜志》拆分后創(chuàng)刊。JVSTA致力于發(fā)表關(guān)于材料、薄膜和等離子體界面和表面的原創(chuàng)研究報(bào)告、信件和評(píng)論文章。JVSTA發(fā)布的報(bào)告在基礎(chǔ)層面推進(jìn)了對(duì)界面和表面的基本理解,并利用這種理解來推進(jìn)各種技術(shù)應(yīng)用的最新進(jìn)展。

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