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如何聯(lián)系《中華商標》雜志?

來源:優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2025-04-03 18:26:46 4172人看過

《中華商標》雜志社聯(lián)系地址:北京市海淀區(qū)阜成路北三街8號8層8003。

雜志基本信息介紹

主編:李劵(副主編)

出版地區(qū):北京

國內刊號:11-3655/D

國際刊號:1006-7531

雜志創(chuàng)刊于1995年,主要獲得過的榮譽有:中國期刊全文數(shù)據(jù)庫(CJFD)等。

《中華商標》雜志文章特色介紹:

<一>論文摘要字數(shù)請控制在400字以內,內容要明確體現(xiàn)核心觀點、創(chuàng)新之處及研究方法。

<二>投稿時請附一簡短的第一作者簡介,內容包括:作者姓名、性別、出生年月、學位(碩士以上者)、職稱、職務、研究方向、聯(lián)系電話(至少給出辦公電話)和E-mail地址及第一作者和通訊作者的ORCID等。

<三>本刊恕不退稿。凡投稿三個月內未接到任何采用通知者可改投他刊。

<四>題名:要緊扣主題,通常為偏正結構,要求精簡,展示亮點,有吸引力。

<五>參考文獻:僅限于作者親自閱讀過的近期公開出版發(fā)行的主要文獻。本刊的參考文獻著錄格式執(zhí)行GB/T 7714-2015《信息與文獻  參考文獻著錄規(guī)則》。

聲明:以上內容來源于互聯(lián)網(wǎng)公開資料,如有不準確之處,請聯(lián)系我們進行修改。

中華商標雜志,出版地:北京,于1995年經(jīng)新聞總署批準的正規(guī)刊物,本刊重視學術導向,堅持科學性、學術性、先進性、創(chuàng)新性,刊載內容涉及的欄目:專欄_法官說商標、商標修法大家談、IP視角、理論研討等。

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