《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志是一本專(zhuān)注于物理與天體物理領(lǐng)域的高質(zhì)量期刊，該雜志的錄用率受多種因素影響，想具體了解可聯(lián)系雜志社或咨詢(xún)在線(xiàn)客服。

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志的錄用率受多種因素影響，具體如下：

年發(fā)文量：《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志年發(fā)文量為：123篇。年發(fā)文量較大的期刊，相對(duì)而言錄用率會(huì)高一些。

質(zhì)量與創(chuàng)新性：論文的科學(xué)性、嚴(yán)謹(jǐn)性、數(shù)據(jù)可靠性以及創(chuàng)新性是關(guān)鍵。

期刊分區(qū)：《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志在中科院的分區(qū)為3區(qū)，而在JCR的分區(qū)為Q2。

論文質(zhì)量：包括研究設(shè)計(jì)的合理性、數(shù)據(jù)的可靠性、分析方法的科學(xué)性等。

影響力與排名：《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志IF影響因子為：2.6。高影響力的期刊通常對(duì)論文質(zhì)量要求更高，錄用率相對(duì)較低。

審稿流程：嚴(yán)格的多輪審稿流程會(huì)篩選掉部分稿件，導(dǎo)致錄用率下降。

投稿數(shù)量：在特定時(shí)期內(nèi)，若大量研究者集中向某期刊投稿，會(huì)導(dǎo)致稿件堆積，錄用率下降。

SCI期刊的錄用率受多重因素影響，作者應(yīng)根據(jù)自身研究特點(diǎn)選擇合適的期刊，并確保稿件質(zhì)量以提高錄用機(jī)會(huì)，投稿前務(wù)必仔細(xì)閱讀期刊的投稿指南，并與雜志社保持良好溝通。

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志簡(jiǎn)介

中文簡(jiǎn)稱(chēng)：等離子化學(xué)和等離子處理
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)稱(chēng)：PLASMA CHEM PLASMA P
出版商：Springer US
出版周期：Quarterly
出版年份：1981年
出版地區(qū)：UNITED STATES
ISSN：0272-4324
ESSN：1572-8986
研究方向：工程技術(shù) - 工程：化工

本期刊發(fā)表有關(guān)等離子體化學(xué)和等離子體處理基礎(chǔ)和應(yīng)用研究的原創(chuàng)論文，范圍包括從非熱等離子體到熱等離子體的處理等離子體、等離子體基礎(chǔ)研究以及特定等離子體應(yīng)用的研究。此類(lèi)應(yīng)用包括但不限于等離子體催化、環(huán)境處理（包括液體和氣體處理）、等離子體的生物應(yīng)用（包括等離子體醫(yī)學(xué)和農(nóng)業(yè)）、表面改性和沉積、粉末和納米結(jié)構(gòu)合成、能源應(yīng)用（包括等離子體燃燒和重整）、資源回收、等離子體與電化學(xué)的耦合以及等離子體蝕刻。還征集等離子體化學(xué)動(dòng)力學(xué)研究以及等離子體與表面的相互作用。投稿必須充分考慮等離子體的作用，例如相關(guān)的等離子體化學(xué)、等離子體物理或等離子體-表面相互作用；僅考慮使用等離子體處理的材料或物質(zhì)的性質(zhì)的稿件不在本期刊的范圍內(nèi)。

在中科院分區(qū)表中，大類(lèi)學(xué)科為物理與天體物理3區(qū)， 小類(lèi)學(xué)科為ENGINEERING, CHEMICAL工程：化工3區(qū)。

聲明：以上內(nèi)容來(lái)源于互聯(lián)網(wǎng)公開(kāi)資料，如有不準(zhǔn)確之處，請(qǐng)聯(lián)系我們進(jìn)行修改。