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《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志查重率過高能過審嗎?

來源:優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2024-09-18 11:04:00 194人看過

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志查重率過高通常很難過審,論文的重復(fù)率是一個重要的考量因素,不同的期刊要求不一樣,通常來說,SCI論文查重率一般建議低于15%或者20%以下,投稿都比較安全。總的來說,保持論文的原創(chuàng)性和獨(dú)特性是關(guān)鍵。

該雜志是國際知名的學(xué)術(shù)出版物,對論文的原創(chuàng)性和學(xué)術(shù)質(zhì)量有著極高的要求。查重率過高往往被視為學(xué)術(shù)不端行為的一種表現(xiàn),如抄襲或過度引用他人成果,這嚴(yán)重違反了學(xué)術(shù)誠信原則。

如果查重率過高,常會采取以下措施:

1、直接拒稿:對于查重率明顯超標(biāo)的論文,SCI期刊往往會直接拒絕接受其發(fā)表。這是為了保護(hù)學(xué)術(shù)界的原創(chuàng)性和誠信,避免抄襲等學(xué)術(shù)不端行為的傳播。

2、要求修改并重審:在某些情況下,如果論文的查重率雖然較高,但其中存在合理的引用和解釋,期刊編輯部可能會要求作者進(jìn)行修改并重審。然而,這種情況相對較少,且修改后的論文仍需滿足期刊的原創(chuàng)性要求。

因此,投稿前最好使用專業(yè)查重工具檢測并優(yōu)化重復(fù)內(nèi)容。

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志(ISSN: 0272-4324,ESSN:1572-8986)是一本專注于工程技術(shù) - 工程:化工的國際SCI期刊,由Springer US出版,創(chuàng)刊于1981年,出版周期為Quarterly。

該雜志主要發(fā)表由領(lǐng)域內(nèi)專家撰寫的短篇文章,旨在以簡明易懂的方式呈現(xiàn)工程:化工的最新研究進(jìn)展,特別適合尚未深入該領(lǐng)域的科研人員閱讀。

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志在工程技術(shù) - 工程:化工領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)影響力,最新影響因子為2.6。

JCR分區(qū)為Q2( 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)中學(xué)科:ENGINEERING, CHEMICAL中為Q3,排名:91 / 170,百分位:46.8%;PHYSICS, APPLIED中為Q2,排名:81 / 179,百分位:55%;PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS中為Q2,排名:12 / 40,百分位:71.3%; 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)中學(xué)科:ENGINEERING, CHEMICAL中為Q2,排名:55 / 171,百分位:68.13%;PHYSICS, APPLIED中為Q2,排名:69 / 179,百分位:61.73%;PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS中為Q2,排名:17 / 40,百分位:58.75%; )。

CiteScore為5.9,(CiteScore排名為大類:Physics and Astronomy,小類:Condensed Matter Physics,分區(qū):Q1,排名:108 / 434,百分位:75%; 大類:Physics and Astronomy,小類:Surfaces, Coatings and Films,分區(qū):Q2,排名:34 / 132,百分位:74%; 大類:Physics and Astronomy,小類:General Chemical Engineering,分區(qū):Q2,排名:79 / 273,百分位:71%; 大類:Physics and Astronomy,小類:General Chemistry,分區(qū):Q2,排名:119 / 408,百分位:70%; )

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志是一本歷史悠久、聲譽(yù)良好的物理與天體物理期刊,以其高質(zhì)量、易讀性和前沿性在學(xué)術(shù)界占據(jù)重要地位。

WOS分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023-2024年最新版)

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q3 91 / 170

46.8%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 81 / 179

55%

學(xué)科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 12 / 40

71.3%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q2 55 / 171

68.13%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 69 / 179

61.73%

學(xué)科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 17 / 40

58.75%

名詞解釋:
WOS即Web of Science,是全球獲取學(xué)術(shù)信息的重要數(shù)據(jù)庫,Web of Science包括自然科學(xué)、社會科學(xué)、藝術(shù)與人文領(lǐng)域的信息,來自全世界近9,000種最負(fù)盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學(xué)術(shù)會議多學(xué)科內(nèi)容。給期刊分區(qū)時會按照某一個學(xué)科領(lǐng)域劃分,根據(jù)這一學(xué)科所有按照影響因子數(shù)值降序排名,然后平均分成4等份,期刊影響因子值高的就會在高分區(qū)中,最后的劃分結(jié)果分別是Q1,Q2,Q3,Q4,Q1代表質(zhì)量最高。

CiteScore分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2024年最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore排名
5.9 0.48 0.912
學(xué)科 分區(qū) 排名 百分位
大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics Q1 108 / 434

75%

大類:Physics and Astronomy 小類:Surfaces, Coatings and Films Q2 34 / 132

74%

大類:Physics and Astronomy 小類:General Chemical Engineering Q2 79 / 273

71%

大類:Physics and Astronomy 小類:General Chemistry Q2 119 / 408

70%

名詞解釋:
CiteScore:衡量期刊所發(fā)表文獻(xiàn)的平均受引用次數(shù)。
SJR:SCImago 期刊等級衡量經(jīng)過加權(quán)后的期刊受引用次數(shù)。引用次數(shù)的加權(quán)值由施引期刊的學(xué)科領(lǐng)域和聲望 (SJR) 決定。
SNIP:每篇文章中來源出版物的標(biāo)準(zhǔn)化影響將實(shí)際受引用情況對照期刊所屬學(xué)科領(lǐng)域中預(yù)期的受引用情況進(jìn)行衡量。

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