《Journal Of Micromechanics And Microengineering》雜志影響錄用的因素有哪些?
來源:優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2024-09-18 10:50:58 260人看過
《Journal Of Micromechanics And Microengineering》雜志是一本專注于工程技術(shù)領(lǐng)域的高質(zhì)量期刊,該雜志的錄用率受多種因素影響,想具體了解可聯(lián)系雜志社或咨詢在線客服。
《Journal Of Micromechanics And Microengineering》雜志的錄用率受多種因素影響,具體如下:
年發(fā)文量:《Journal Of Micromechanics And Microengineering》雜志年發(fā)文量為:137篇。年發(fā)文量較大的期刊,相對(duì)而言錄用率會(huì)高一些。
質(zhì)量與創(chuàng)新性:論文的科學(xué)性、嚴(yán)謹(jǐn)性、數(shù)據(jù)可靠性以及創(chuàng)新性是關(guān)鍵。
期刊分區(qū):《Journal Of Micromechanics And Microengineering》雜志在中科院的分區(qū)為4區(qū),而在JCR的分區(qū)為Q2。
論文質(zhì)量:包括研究設(shè)計(jì)的合理性、數(shù)據(jù)的可靠性、分析方法的科學(xué)性等。
影響力與排名:《Journal Of Micromechanics And Microengineering》雜志IF影響因子為:2.4。高影響力的期刊通常對(duì)論文質(zhì)量要求更高,錄用率相對(duì)較低。
審稿流程:嚴(yán)格的多輪審稿流程會(huì)篩選掉部分稿件,導(dǎo)致錄用率下降。
投稿數(shù)量:在特定時(shí)期內(nèi),若大量研究者集中向某期刊投稿,會(huì)導(dǎo)致稿件堆積,錄用率下降。
SCI期刊的錄用率受多重因素影響,作者應(yīng)根據(jù)自身研究特點(diǎn)選擇合適的期刊,并確保稿件質(zhì)量以提高錄用機(jī)會(huì),投稿前務(wù)必仔細(xì)閱讀期刊的投稿指南,并與雜志社保持良好溝通。
《Journal Of Micromechanics And Microengineering》雜志簡(jiǎn)介
中文簡(jiǎn)稱:微機(jī)械與微工程雜志
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)稱:J MICROMECH MICROENG
出版商:IOP Publishing Ltd.
出版周期:Monthly
出版年份:1991年
出版地區(qū):ENGLAND
ISSN:0960-1317
ESSN:1361-6439
研究方向:工程技術(shù) - 材料科學(xué):綜合
《微機(jī)械與微工程雜志》(JMM)主要涵蓋實(shí)驗(yàn)工作,但有實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)支持的相關(guān)建模論文也會(huì)被考慮。
該雜志專注于以下方面:
-納米和微機(jī)械系統(tǒng)
-納米和微機(jī)電系統(tǒng)
-納米和微電氣和機(jī)電一體化系統(tǒng)
-納米和微工程
-納米和微尺度科學(xué)
請(qǐng)注意,我們不發(fā)表沒有明顯應(yīng)用或與納米或微工程沒有聯(lián)系的材料論文。
以下是一些包含在該雜志范圍內(nèi)的主題示例:
-MEMS 和 NEMS:
包括傳感器、光學(xué) MEMS/NEMS、RF MEMS/NEMS、等。
-制造技術(shù)和制造:
包括微加工、蝕刻、光刻、沉積、圖案化、自組裝、3D 打印、噴墨打印。
-封裝和集成技術(shù)。
-材料、測(cè)試和可靠性。
-微流體和納米流體:
包括光流體、聲流體、液滴、微反應(yīng)器、器官芯片。
-芯片實(shí)驗(yàn)室和微納米全分析系統(tǒng)。
-生物醫(yī)學(xué)系統(tǒng)和設(shè)備:
包括生物 MEMS、生物傳感器、分析、器官芯片、藥物輸送、細(xì)胞、生物界面。
-能源和電力:
包括電力 MEMS/NEMS、能量收集器、執(zhí)行器、微電池。
-電子:
包括柔性電子、可穿戴電子、接口電子。
-光學(xué)系統(tǒng)。
-機(jī)器人。
在中科院分區(qū)表中,大類學(xué)科為工程技術(shù)4區(qū), 小類學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工程:電子與電氣4區(qū)。
中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023年12月升級(jí)版)
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
名詞解釋:
中科院分區(qū)也叫中科院JCR分區(qū),基礎(chǔ)版分為13個(gè)大類學(xué)科,然后按照各類期刊影響因子分別將每個(gè)類別分為四個(gè)區(qū),影響因子5%為1區(qū),6%-20%為2區(qū),21%-50%為3區(qū),其余為4區(qū)。
中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2022年12月升級(jí)版)
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月舊的升級(jí)版)
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月基礎(chǔ)版)
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月升級(jí)版)
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2020年12月舊的升級(jí)版)
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
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