《Materials Science In Semiconductor Processing》投稿后多久回復?
來源:優(yōu)發(fā)表網整理 2024-09-18 10:49:24 934人看過
《Materials Science In Semiconductor Processing》雜志投稿后多久回復取決于雜志審稿速度:預計 約1.7個月 約3.7周。投稿前請仔細閱讀相關投稿須知,有任何疑問可以聯(lián)系雜志社或咨詢在線客服。
《Materials Science In Semiconductor Processing》雜志于1998年創(chuàng)刊,刊號為ISSN:1369-8001,EISSN:1873-4081,是一本專注于工程技術 - 材料科學:綜合領域的SCIE期刊,出版周期為:Bimonthly,目前未開放OA(未開放訪問)。主要發(fā)表由專家撰寫的簡短且易于理解的文章,內容精煉且具有較高的學術價值,特別適合那些希望快速了解某一特定研究方向最新進展的讀者。
《半導體加工中的材料科學》為討論(光)電子、傳感器、探測器、生物技術和綠色能源的功能材料和器件的新型加工、應用和理論研究提供了一個獨特的論壇。
每期都旨在提供當前見解、新成就、突破和未來趨勢的快照,涉及微電子、能量轉換和存儲、通信、生物技術、(光)催化、納米和薄膜技術、混合和復合材料、化學加工、氣相沉積、器件制造和建模等不同領域,這些領域是先進半導體加工和應用的支柱。
內容包括:亞微米器件的先進光刻技術;蝕刻及相關主題;離子注入;損傷演變和相關問題;等離子體和熱 CVD;快速熱處理;先進的金屬化和互連方案;薄介電層、氧化;溶膠-凝膠處理;化學浴和(電)化學沉積;復合半導體加工;新型非氧化物材料及其應用; (大)分子和混合材料;分子動力學、從頭算方法、蒙特卡羅等;分立電路和集成電路的新材料和新工藝;磁性材料和自旋電子學;異質結構和量子器件;半導體電學和光學特性的工程;晶體生長機制;可靠性、缺陷密度、固有雜質和缺陷。
在收錄情況方面,《Materials Science In Semiconductor Processing》雜志在中科院最新升級版分區(qū)表中,該雜志分區(qū)信息為大類學科工程技術3區(qū),影響因子為4.2,CiteScore為8,在工程技術 - 材料科學:綜合領域的排名較為靠前,其 SJR為 0.732,SNIP為0.992,h-index指數(shù)為49,這些數(shù)據(jù)都反映出期刊在學術界具有較高的影響力和學術價值。
投稿SCI期刊后收到回復的時間因多種因素而異,具體時間如下:
初審階段:編輯初審通常在1-4周內完成,主要檢查論文的格式、規(guī)范性以及是否符合期刊的基本要求。
同行評審階段:若論文通過初審,編輯會將其發(fā)送給多位同行評審人進行詳細評估。這一階段是整個審稿過程中最耗時的部分,通常需要1-3個月。
終審階段:編輯在得到審稿人的反饋后,會根據(jù)審稿人的意見給出接收、小修、大修、拒稿等結果。這一階段的時間相對較短,通常在收到審稿意見后幾天到一周內完成。
投稿者在選擇期刊時,應考慮到審稿周期,并做好長期等待的準備,同時也要注意不同期刊的具體要求和效率可能大相徑庭。
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